Компания выполняет работы по осаждению покрытий вакуумными методами: вакуумное напыление (PVD, в том числе магнетронное напыление), плазмохимическое осаждение (PECVD).
Плазменная обработка поверхностей используется для их чистки от загрязнений, придания им гидрофильных свойств или увеличения их поверхностной энергии с целью улучшения адгезии клеящихся веществ к обработанным поверхностям.
Источники плазмы широко применяются в промышленности для целого ряда задач, в которые входит: создание ионного пучка для ионного травления или ассистирования при нанесении покрытий, а также для сверхтонкой шлифовки и выглаживания поверхностей; создание потоков плазмы для плазмохимических технологий и технологий вакуумной обработки поверхностей.
Компания занимается выполнением научно-исследовательских работ по физике плазмы и плазменным технологиям.
Сотрудниками фирмы разработан оригинальный источник плазмы атмосферного тлеющего разряда постоянного тока, в котором сканирование плазмы по поверхности металла осуществляется с помощью воздушного потока. Разработанное устройство не требует больших мощностей и позволяет существенно уменьшить количество генерируемого озона по сравнению с известными аналогами.
Использование инновационного метода нанесения биоактивного покрытия на зубные имплантаты для ускорения остеоинтеграции и уменьшения риска отторжения
Сотрудниками фирмы разработан метод магнетронного напыления наночастиц тяжелых металлов (серебра, меди) на полимерные пленки. Метод отличает высокая адгезии наночастиц к поверхности пленок.
Сотрудниками фирмы разработан технологический процесс осаждения в газовом разряде функционального покрытия на поверхность материалов, в том числе на панели теплообменников с целью снижения энергопотребления, повышения их эксплуатационных характеристик и ресурса.
Россия, 107258, Москва
бульвар Маршала Рокоссовского,
дом. 39, корп. 1, помещение V